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喜报 | 沉掺砷单晶拉造成功,打响海纳五年规划第一枪
info1-img2020/09/27 info2-img4036 字号: info3-img1info3-img2info3-img3 info4-img

2020年9月19日,浙江海纳半导体有限公司(以下简称“海纳半导体”)第一根5英寸沉掺砷单晶出炉。


紧接着9月23日,第一根6英寸沉掺砷单晶相继出炉。沉掺砷单晶的拉造成功标志取海纳半导体“年产100吨4-8英寸IC级单晶硅及其制品技改项目」佚式拉开量产的帷幕,这是海纳半导体在沉掺抛光片细分领域迈进的沉要一步,更是实现k8.com科技新经营发展战术——“智慧交通+泛半导体”中的沉要一环。


随着沉掺砷单晶的试拉成功,海纳半导体的产品结构将延长到表延衬底用抛光硅片的所有沉掺系列,为实现海纳半导体的五年规划打响了第一枪。


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海纳半导体的沉掺项目自2019年7月起头着手造订执行规划,在处所当局的大力支持下,经过环保部门严格评审,2020年1月21日正式获得环评审批。

2020年伊始,突如其来的新冠病毒疫情打乱了所有的打算,但整个员工不畏艰巨、奇妙铺排,冒风雨、顶酷热,终于仅比原打算推迟一个月,全面实现了按环评要求的环保设施建设和按IC级环境要求的场地升级刷新,装置、调试单晶炉及其配套的真空、气体设备也马一向蹄地进行,最终于8月底达成了出产前提。

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沉掺表延衬底用抛光硅片是抛光片最大的细分市场。海纳半导体目前已把握了造备各类沉掺硅单晶的有关技术,凭据硼、磷、锑、砷等分歧元素的化学个性开发有关技术,精确节造掺杂剂比例,电阻率射中正确,部门技术指标行业当先。海纳半导体在沉掺系列产品的全覆盖,为海纳半导体进一步提升抛光片产品的产能和市场,并成为国内质量一流的抛光片企业夯实了基础。

积跬步以至千里,整个海纳人将再接再严、勇闯新高,为实现指标——将海纳半导体打造成“一家以6英寸抛光正片为主,兼8英寸抛光片(沉掺衬底硅片)质量国内一流、高端研磨片国内龙头职位的优良企业”而不懈致力!


沉掺砷单晶简介
随着极大规模集成电路时期的到来,CMOS工艺因其多所周知的低功耗和优越的噪声容限,已经成为IC业的盛行工艺,但随着集成度提高而带来器件沟路宽度的不休缩幼,CMOS结构所固有的pnpn晶体管引起的闩锁(Latch-up)效应会越发严沉,另表,电路按比例缩幼后由α粒子辐射产生的软失效还可能在电路中引发严沉的逻辑谬误。

沉掺单晶能够解决这一问题。沉掺单晶因其能克服器件结构中固有的关锁效应和α粒子软失效等寄生效应,从而宽泛用作硅表延片的衬底资料。其中,由于砷元素具备溶化度大、扩散系数幼、错配度幼等个性,沉掺砷硅单晶片是最为梦想的表延衬底资料,宽泛利用于集成电路和高端功率器件中。随着集成电路和功率器件利用领域和领域的不休扩大,对沉掺砷硅单晶片的市场需要量也不休增长。


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